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200g桌面式真空熔炼炉小型熔炼炉
小型真空熔炼炉实验真空熔炼炉设备用途
本设备是金属玻璃制备的专用设备，主要供大专院校及科研单位等在真空或保护气氛条件下对金属材料（如不锈钢、镍基合金、铜、合金钢、镍钴合金、稀土钕铁錋等）的熔炼处理，也可进行合金钢的真空精炼处理及精密铸造。本设备采用温控仪表控制电源加热，测温采用铂铑热电偶，温度更加精确，更加节能。
200g桌面式真空熔炼炉小型熔炼炉主要技术参数
1.样品熔炼量：200g;
2.真空度：可选配（配置优于5x10-4Pa;）
3.熔炼电源功率：7KW;
4.熔炼温度：500℃-1700℃，满足绝大多数实验要求;
5.熔炼坩埚：氧化铝;
6·可选配浇铸功能
7.真空腔尺寸：300×300×480mm (L*W*H)
8.设备尺寸：620*560*780m（L*W*H）
9.标配：主机及感应熔炼电源
10.桌面式设计，占地空间小，特别节约实验空间和能源